Najnovije znanstveno dostignuće koje će se odraziti na razvoj informatičke tehnologije uspjeh je istraživačkog tima s Carnegie Instituta u Washingtonu koji su uspjeli napraviti prvi dušični poluvodič.

Dušik je plin koji čini bar 75 posto zraka koji udišemo, no dušik koji će biti iskorišten u proizvodnji čipova budućnosti potpuno je nova forma tog elementa. Obični dušik iz zraka stiješnjen tlakom od čak 2,4 milijuna atmosfera pretvara se u čvrstu tvar s poluvodičkim svojstvima koja čak i kad se vrati na normalni atmosferski tlak - onaj na razini mora, zadržava svoj novi oblik i svojstva. Znanstveni tim koji je postigao taj uspjeh, o čemu se iscrpan izvještaj može pročitati u najnovijem broju časopisa Nature, predvodi Dr. Russell Hemley, a njegove kolege su Mikhail Eremets, Ho-Kwang Mao i Eugene Gregoryanz. Pokusi koji su doveli do proizvodnje poluvodičkog dušila izvedeni su u Carnegie Geofizičkom laboratoriju, glavnoj američkoj insitutciji za istraživanje tvari pod visokim pritiscima. U teorijskoj fizici već se godinama predviđa da bi molekularni dušik (N2) pod pritiskom većim od milijun atmosfera (100 gigapaskala) mogao steći svojstva ili vodiča ili poluvodiča. Ista teorija ta svojstva predviđa i za vodik pod sličnim uvjetima, no to još nije provjereno u laboratoriju. Eksperimenti koji su prethodili posljednjem bili su ograničeni količinom pritiska koji se mogao primijeniti i poteškoćama u mjerenju što se događa s nekom tvari pri tako ekstremnim uvjetima. Tehnološkim poboljšanjima uspjelo se izmjeriti električnu vodljivost tvari pod visokim pritiskom i na različitim temperaturama. A ono što je još bitnije, dušik nakon što je obrađen tlakom od više milijuna atmosfera zadržava novi oblik i poluvodička svojstva pod normalnim pritiskom što ga čini u izobilju dostupnom sirovinom za elektroničke komponente budućnosti.